PLASMA (PSM): Pozytywna ocena wniosku Emitenta o dofinansowanie projektu - działanie 1.4 POIG - raport 18

Zarząd Spółki Plasma SYSTEM S.A. z siedzibą w Siemianowicach Śląskich informuje, że w dniu w dniu 22.10.2012r. pozyskał informację o pozytywnej ocenie projektu zgłoszonego przez Spółkę do dofinansowania w konkursie w ramach Działania 1.4 POIG "Wsparcie projektów celowych". Projekt "Opracowanie technologii laserowego wytwarzania warstw wierzchnich na elementach hydrauliki siłowej" w wyniku pozytywnej oceny merytorycznej Narodowego Centrum Badań i Rozwoju został rekomendowany do dofinansowania.

Całkowita wartość projektu wynosi 4,46 mln PLN, w tym wnioskowana, a zarazem rekomendowana kwota dofinansowania wynosi 2,49 mln PLN.

Celem projektu jest poszerzenie i wzrost innowacyjności oferty produktowej i usługowej Spółki poprzez opracowanie i wdrożenie innowacyjnej technologii laserowego wytwarzania warstw wierzchnich w produkcji i regeneracji elementów hydrauliki siłowej.

Podstawa prawna:

§ 3 ust. 1 Załącznika Nr 3 do Regulaminu Alternatywnego Systemu Obrotu "Informacje Bieżące i Okresowe przekazywane w alternatywnym systemie obrotu na rynku NewConnect".

Osoby reprezentujące spółkę:
Sławomir Wawrzyniak - Prezes Zarządu
Andrzej Gruszka - Wiceprezes Zarządu